5月20日关于王东伟等硕士研究生答辩的公告

答辩时间:2025年5月20日(星期二)8:00

答辩地点:微电子所202会议室

答辩委员会:檀柏梅(主席) 王胜利 (教授)何彦刚 (副研究员)杨学莉 (副教授)孙鸣(讲师)

      朱梦雅 (讲师)

秘   书:齐宇航(讲师)

答辩顺序:

序号

答辩人

专业

论文题目

备注

1

王东伟

新一代电子信息技术(含量子技术等)

新型CeO2/SiO2复合磨料的制备及其在集成电路SiO2层级介质的CMP应用


2

赵悦琦

新一代电子信息技术(含量子技术等)

集成电路钨CMP速率与表面质量控制的研究


3

韩欣宇

电子科学与技术

基于CeO2磨料的SiO2/Si3N4 CMP及后清洗机理研究


4

刘人豪

电子科学与技术

唑类缓蚀剂在铜及其氧化物表面吸附机理及清洗研究


5

翟乐

新一代电子信息技术

MEMS器件铜/CMP速率选择性及腐蚀抑制机理研究


6

齐美玲

新一代电子信息技术(含量子技术等)

磷化铟CMP抛光液组分研究及机理分析


7

刘雯露

新一代电子信息技术(含量子技术等)

ZnFe2O4基二元金属氧化物气敏材料设计及气体传感器研究


8

聂申奥

新一代电子信息技术(含量子技术等)

基于纳米CeO2磨料STI CMP抛光液高选择性及稳定性机理的研究


9

胡政

电子科学与技术

MOF衍生的NiO敏感材料的制备及气体传感器研究


10

张亚林

电子科学与技术

ZnO基气体传感器的制备及性能提升机制研究


11

邱宇轩

电子科学与技术

用于先进封装工艺的晶圆背面减薄抛光液的研究


 

  

电子信息工程学院

2025年5月19日