7月3日关于马浩轩等硕士研究生中期报告的公告
时间:2026-06-30 来源: 作者: 访问量:
答辩时间:2026年7月3日(星期五)8:30
答辩地点:微电子所202会议室
答辩委员会:檀柏梅(教 授)、高宝红(副研究员)、石芸慧(副教授)
答辩秘书:周佳凯(博士、讲师)
答辩顺序:
序号 |
答辩人 |
专业 |
论文题目 |
备注 |
1 |
马浩轩 |
电子科学与技术 |
基于Cu/CeO2复合磨料的高选择比SiO2/Si3N4 STI CMP浆料研究 |
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2 |
潘迪生 |
电子科学与技术 |
层状苄胺铅溴材料的室温二甲胺气敏性能及调控研究 |
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3 |
张栋海 |
电子科学与技术 |
TEA修饰CeO2磨料提升Ga2O3 CMP的机理研究 |
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4 |
赵鑫 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
磷化铟化学机械抛光效率提升及抛光液稳定机制研究 |
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5 |
徐小楠 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
红外探测器锑化铟衬底化学机械抛光速率与表面质量研究 |
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6 |
孙佳慧 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
钨化学机械抛光中催化磨料的反应行为与抛光机理研究 |
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7 |
张敬东 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
基于混合磁性磨料的单晶碳化硅化学-机械-磁流变抛光研究 |
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8 |
刘亚涛 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
锑化铟单晶化学机械抛光速率及表面质量研究 |
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9 |
许伯村 |
电子科学与技术 |
基于类芬顿反应的高效锗CMP的机理研究 |
电子信息工程学院
2026年6月30日
