7月6日关于郑龙等硕士研究生中期报告的公告
时间:2026-06-30 来源: 作者: 访问量:
答辩时间:2026年7月6日(星期一)14:00
答辩地点:微电子所202会议室
答辩委员会:张保国(教 授)、王 如(高级实验师)、杨学莉(副教授)
答辩秘书:周佳凯(博士、讲师)
答辩顺序:
序号 |
答辩人 |
专业 |
论文题目 |
备注 |
1 |
郑龙 |
电子科学与技术 |
PTO基-MBene水系锌离子电池的制备及储能机制研究 |
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2 |
王欣 |
电子科学与技术 |
水溶性聚合物与表面活性剂对硅片精抛的协同调控机理研究 |
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3 |
吴志科 |
电子科学与技术 |
基于Fe/CeO2磨料对SiC光催化芬顿反应辅助CMP的机理研究 |
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4 |
郑俊 |
电子科学与技术 |
改性α-Al2O3磨料对磷化铟CMP的机理研究 |
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5 |
王帅超 |
信息与通信工程 |
基于机器学习的铜CMP去除速率与表面粗糙度预测模型研究 |
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6 |
刘博尧 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
模板剂调控的CeO2磨料在SiO2 CMP中的材料去除机制研究 |
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7 |
郭世广 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
氧空位调控CeO2对SiC光催化辅助CMP机理研究 |
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8 |
李畅 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
基于深共熔溶剂的CeO2回收与应用研究 |
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9 |
杨振文 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
N2等离子体构建NiOx-Ov界面及光热CO2甲烷化机理研究 |
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10 |
李赛微 |
新一代电子信息技术(含量子技术等) |
基于CeO2的双氧化剂在Ru/SiO2 CMP中的选择性去除机理研究 |
电子信息工程学院
2026年6月30日
